DLCコーティング・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

コーティング装置 PSII方式マルチPVD成膜装置

真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制御を容易にし、更に多層膜や複数の原料を使用してドーピング成膜をすることで、全く新しい特性のDLC膜も処理が可能。量産用生産機から開発を目的とした実験機と、あらゆる用途に適応します。

PSII方式マルチPVD成膜装置 仕様

機種 NPS-500 NPS-800 NPS-1000
真空槽(mm)
500W×500W×600H φ800×650H φ1000×900H
有効エリア(mm)
φ200×200L φ500×200L φ600×500L
基板ホルダー
自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)
搭載可能システム
PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)
スパッタリング、イオン注入源
到達圧力
6.7×10-4 Pa以下
排気速度
6.7×10-3 Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)
基板バイアス
MAX 20kV 500mA 0.2~2kHz DUTY5~50% 
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転 ※一部複合型は除く
排気系
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
所要電力
3φ 200V 15kVA~ 3φ 200V 25kVA~ 3φ 200V 30kVA~
設置面積(M)
2.5W×3.0D×2.5H 3.0W×4.0D×2.5H 4.0W×4.0D×2.5H
冷却水
3kgf/cm2  20~40L/min
圧縮空気
6kgf/cm2  以上

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