DLCコーティング・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

コーティング装置 ホローカソード型PVD成膜装置

真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。

ホローカソード型PVD成膜装置 <NTHシリーズ>

弊社真空装置技術の基礎となった伝統のモデルで、独自に開発したホローカソード型イオンプレーティング方式によって、TiN、TiCN、CrN等のハードコーティングをドロップレットの少ない、平滑で密着性の高い成膜処理として可能にいたしました。

特徴

・ハース上下動及びロッドフィード方式による成膜エリアの拡大並びに均一性向上を実現

・両扉オープン及び治具下置設計による作業性向上

・ビーム収束コイルによる高エネルギー密度プラズマビームの発生

原理・構造

中空陰極内部より放電用作動ガスであるアルゴンガスを放出し、この不活性ガスであるアルゴンガスをイオン化し、放電を形成します。

ホローカソード型PVD成膜装置 仕様

機種 NTH-1000
真空槽(mm)
φ1000×800H
有効エリア(mm)
φ200×400×8式
基板ホルダー
自公転式(下置型)
作動ガス
Ar・N2・C2H2
蒸発イオン源
HCDガン
到達圧力
6.7×10-4Pa以下
排気速度
6.7×10-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
電子衝撃加熱(オプションでシースヒーター、ランプヒーター等)
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転
排気系
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
所要電力
3φ 200V 100kVA
設置面積(M)
5.5W×5.0D×2.5H
冷却水
3kgf/cm2 20L/min
圧縮空気
6kgf/cm2 以上

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