DLCコーティング・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

コーティング装置

真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。

DLC (ダイヤモンドライクカーボン)

DLC成膜装置 <NANOCOAT シリーズ>


ダイヤモンドの性質に近い高硬度(マイクロビッカース硬度2,000~4, 000)、低摩擦係数(μ=0.2以下)、表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモンド・ライク・カーボン成膜装置のスタンダードモデル。

DLC成膜装置の詳細

大電力パルススパッタリングによる
高機能水素フリーICF(真性カーボン膜)の超高速成膜装置


HiPIMS法によるRoll to Roll 成膜装置

水素フリーICF高速成膜装置

ICF成膜装置 <ICF シリーズ>


DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコーティング装置

ICF成膜装置の詳細

マルチPVD成膜装置 <DASH シリーズ>


低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン(DLC)膜の生成をベースに、各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。

また、アーク源やHCDガンを単独で使用すれば、チタンやクロム系の薄膜/合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。

マルチPVD成膜装置の詳細

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPS シリーズ>


イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本に、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載して、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制御を容易にし、更に多層膜や複数の原料を使用してドーピング成膜をすることで、全く新しい特性のDLC膜も処理が可能です。量産用生産機から開発を目的とした実験機と、あらゆる用途に適応します。

PSII方式マルチPVD成膜装置の詳細

ホローカソード型PVD成膜装置 <NTH シリーズ>

弊社真空装置技術の基礎となった伝統のモデルです。独自に開発したホローカソード型イオンプレーティング方式によって、TiN、TiCN、CrN等のハードコーティングをドロップレットの少ない、平滑で密着性の高い成膜処理を可能にしました。

ホローカソード型PVD成膜装置の詳細

小型DLC成膜実験装置 <330 シリーズ>


弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発されたDLC成膜実験機の最新モデル。

コンパクト設計ではありながら、PSII電源標準装備や高周波スパッタ源等を追加可能で、大型生産機と同様の複合成膜も一台で実験が可能。

小型DLC成膜実験装置の詳細

DLC剥離処理装置


DLC膜及び中間層膜を弊社独自のプラズマ技術によって剥離・洗浄が可能な専用モデル。DLC膜の代表的な特徴でもある、成膜⇔剥離を繰り返し行えるリサイクル機能の剥離工程を担当する重要な装置。

DLC剥離処理装置の詳細

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