真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン（DLC）膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜／合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。
マルチPVD成膜装置 仕様
| 機種 | DASH-500 | DASH-800 | DASH-1000 |
|---|---|---|---|
| 真空槽(mm) |
500W×500W×600H | φ800×650H | φ1000×900H |
| 有効エリア(mm) |
φ200×200L | φ500×200L | φ600×500L |
| 基板ホルダー |
自公転式（製品形状に応じて特注製作可能） | ||
| 搭載可能システム |
DLCイオン源（イオン化蒸着源）、HCDガン、スパッタリング | ||
| アーク、EBガン、イオン注入源 | |||
| 到達圧力 |
6.7×10-4Pa以下 | ||
| 排気速度 |
6.7×10-3Pa以下まで30分以内 | ||
| 基板加熱機構 |
オプション（シースヒーター、ランプヒーター等） | ||
| 基板バイアス |
MAX 3,000V 500mA | ||
| 装置制御 |
レシピ画面設定による完全自動運転 ※一部複合型は除く | ||
| 排気系 |
ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ | ||
| 所要電力 |
3φ 200V 15ｋVA〜 | 3φ 200V 25ｋVA〜 | 3φ 200V 30ｋVA〜 |
| 設置面積（Ｍ） |
2.5W×3.0D×2.5H | 3.0W×4.0D×2.5H | 4.0W×4.0D×2.5H |
| 冷却水 |
3kgf／cm2 20L〜40L／min | ||
| 圧縮空気 |
6kgf／cm2 以上 | ||
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