ダイヤモンドの性質に近い高硬度（マイクロビッカース硬度2,000〜4, 000）、低摩擦係数（μ＝0.2以下）、表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモンド・ライク・カーボン成膜装置のスタンダードモデル。

原理・構造

本装置は真空中において特殊なイオン源によりC6H6（ベンゼン）をプラズマ中で分解し、ダイヤモンドライクカーボン膜を生成させます。

マルチイオン源によるプラズマエリアの制御と基板回転機構により、複雑形状物へも均一で密着力の強いコーティングが可能です。

DLC成膜装置 仕様

機種	NANOCOAT-500	NANOCOAT-800	NANOCOAT-1000
真空槽(mm)	500W×500W×600H	φ800×650H	φ1000×900H
有効エリア(mm)	φ200×200L	φ500×200L	φ600×500L
基板ホルダー	自公転式（製品形状に応じて特注製作可能）
搭載放電システム	DLCイオン源（イオン化蒸着源）
到達圧力	6.7×10-4Pa以下
排気速度	6.7×10-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構	オプション（シースヒーター、ランプヒーター等）
基板バイアス	MAX 3,000V　500mA
装置制御	レシピ画面設定による完全自動運転
排気系	ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ
所要電力	3φ　200V　10ｋVA	3φ　200V　20ｋVA	3φ　200V　30ｋVA
設置面積（Ｍ）	2.5W×3.0D×2.5H	3.0W×4.0D×2.5H	4.0W×4.0D×2.5H
冷却水	3kgf/cm2　20〜40L／min
圧縮空気	6kgf/cm2　以上