弊社真空装置技術の基礎となった伝統のモデルで、独自に開発したホローカソード型イオンプレーティング方式によって、TiN、TiCN、CrN等のハードコーティングをドロップレットの少ない、平滑で密着性の高い成膜処理として可能にいたしました。

特徴

・ハース上下動及びロッドフィード方式による成膜エリアの拡大並びに均一性向上を実現

・両扉オープン及び治具下置設計による作業性向上

・ビーム収束コイルによる高エネルギー密度プラズマビームの発生

原理・構造

中空陰極内部より放電用作動ガスであるアルゴンガスを放出し、この不活性ガスであるアルゴンガスをイオン化し、放電を形成します。

ホローカソード型PVD成膜装置 仕様

機種	NTH-1000
真空槽(mm)	φ1000×800H
有効エリア(mm)	φ200×400×8式
基板ホルダー	自公転式（下置型）
作動ガス	Ar・N2・C2H2
蒸発イオン源	HCDガン
到達圧力	6.7×10-4Pa以下
排気速度	6.7×10-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構	電子衝撃加熱（オプションでシースヒーター、ランプヒーター等）
装置制御	レシピ画面設定による完全自動運転
排気系	ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ
所要電力	3φ 200V 100ｋVA
設置面積（Ｍ）	5.5W×5.0D×2.5H
冷却水	3kgf/cm2　20L／min
圧縮空気	6kgf/cm2　以上