低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン（DLC）膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜／合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。
装置仕様
機種 |
DASH-500 |
DASH-800 |
DASH-1000 |
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真空槽(mm) |
500W×500W×600H |
φ800×650H |
φ1000×900H |
有効エリア(mm) |
φ200×200L |
φ500×200L |
φ600×500L |
基板ホルダー |
自公転式（製品形状に応じて特注製作可能） |
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搭載可能システム |
DLCイオン源（イオン化蒸着源）、HCDガン、スパッタリング |
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アーク、EBガン、イオン注入源 |
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到達圧力 |
6.7×10-4Pa以下 |
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排気速度 |
6.7×10-3Pa以下まで30分以内 |
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基板加熱機構 |
オプション（シースヒーター、ランプヒーター等） |
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基板バイアス |
MAX 3,000V 500mA |
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装置制御 |
レシピ画面設定による完全自動運転 ※一部複合型は除く |
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排気系 |
ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ |
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所要電力 |
3φ 200V 15ｋVA〜 |
3φ 200V 25ｋVA〜 |
3φ 200V 30ｋVA〜 |
設置面積（Ｍ） |
2.5W×3.0D×2.5H |
3.0W×4.0D×2.5H |
4.0W×4.0D×2.5H |
冷却水 |
3kgf／cm2 20L〜40L／min |
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圧縮空気 |
6kgf／cm2 以上 |
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