ダイヤモンドの性質に近い高硬度（マイクロビッカース硬度2,000〜4, 000）低摩擦係数（μ＝0.2以下）表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモンド・ライク・カーボン成膜装置のスタンダードモデル。
原理・構造
本装置は真空中において特殊なイオン源によりC6H6（ベンゼン）をプラズマ中で分解し、ダイヤモンドライクカーボン膜を生成させます。
マルチイオン源によるプラズマエリアの制御と基板回転機構により、複雑形状物へも均一で密着力の強いコーティングが可能です。
装置仕様
| 機種 | NANOCOAT-500 | NANOCOAT-800 | NANOCOAT-1000 |
|---|---|---|---|
| 真空槽(mm) | 500W×500W×600H | φ800×650H | φ1000×900H |
| 有効エリア(mm) | φ200×200L | φ500×200L | φ600×500L |
| 基板ホルダー | 自公転式（製品形状に応じて特注製作可能） | ||
| 搭載放電システム | DLCイオン源（イオン化蒸着源） | ||
| 到達圧力 | 6.7×10-4Pa以下 | ||
| 排気速度 | 6.7×10-3Pa以下まで30分以内 | ||
| 基板加熱機構 | オプション（シースヒーター、ランプヒーター等） | ||
| 基板バイアス | MAX 3,000V 500mA | ||
| 装置制御 | レシピ画面設定による完全自動運転 | ||
| 排気系 | ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ | ||
| 所要電力 | 3φ 200V 10ｋVA | 3φ 200V 20ｋVA | 3φ 200V 30ｋVA |
| 設置面積（Ｍ） | 2.5W×3.0D×2.5H | 3.0W×4.0D×2.5H | 4.0W×4.0D×2.5H |
| 冷却水 | 3kgf/cm2 20〜40L／min | ||
| 圧縮空気 | 6kgf/cm2 以上 | ||
