弊社真空装置技術の基礎となった伝統のモデルで、独自に開発したホローカソード型イオンプレーティング方式によって、TiN、TiCN、CrN等のハードコーティングをドロップレットの少ない、平滑で密着性の高い成膜処理として可能にいたしました。
特徴
- ハース上下動及びロッドフィード方式による成膜エリアの拡大並びに均一性向上を実現
- 両扉オープン及び治具下置設計による作業性向上
- ビーム収束コイルによる高エネルギー密度プラズマビームの発生
原理・構造
中空陰極内部より放電用作動ガスであるアルゴンガスを放出し、この不活性ガスであるアルゴンガスをイオン化し、放電を形成します。
装置仕様
| 機種 | NTH-1000 |
|---|---|
| 真空槽(mm) | φ1000×800H |
| 有効エリア(mm) | φ200×400×8式 |
| 基板ホルダー | 自公転式（下置型） |
| 作動ガス | Ar・N2・C2H2 |
| 蒸発イオン源 | HCDガン |
| 到達圧力 | 6.7×10-4Pa以下 |
| 排気速度 | 6.7×10-3Pa以下まで30分以内 |
| 基板加熱機構 | 電子衝撃加熱（オプションでシースヒーター、ランプヒーター等） |
| 装置制御 | レシピ画面設定による完全自動運転 |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ |
| 所要電力 | 3φ 200V 100ｋVA |
| 設置面積（Ｍ） | 5.5W×5.0D×2.5H |
| 冷却水 | 3kgf/cm2 20L／min |
| 圧縮空気 | 6kgf/cm2 以上 |
