弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モデル。
コンパクト設計ではありながら、PSII電源標準装備や高周波スパッタ源等を追加可能で、大型生産機と同様の複合成膜も一台で実験が可能。
装置仕様
| 機種 | NPS-330 |
|---|---|
| 真空槽(mm) | 330W×330D×410H |
| 有効エリア(mm) | φ150×150L （スパッタリング搭載時は※110L） |
| 基板ホルダー | 自公転式（製品形状に応じて特注製作可能） |
| 搭載可能システム | PSII電源（標準）、DLCイオン源（イオン化蒸着源）、 |
| スパッタリング電源、DLC剥離用電源 | |
| 到達圧力 | 6.7×10-4 Pa以下 |
| 排気速度 | 6.7×10-3 Pa以下まで30分以内 |
| 基板加熱機構 | オプション（シースヒーター） |
| 基板バイアス | MAX 5kV 250mA 0.2〜2ｋＨｚ DUTY5〜50％ |
| 装置制御 | 排気運転は自動、その他、成膜プロセスは手動 |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ |
| 所要電力 | 3φ 200V 10ｋVA〜 |
| 設置面積（Ｍ） | 2.5W×2.5D×2.0H |
| 冷却水 | 2kgf／cm2 20L／min |
| 圧縮空気 | 5kgf／cm2 以上 |
