コーティング装置 マルチPVD成膜装置
真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。
マルチPVD成膜装 ＜DASHシリーズ＞
低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン（DLC）膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜／合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。
マルチPVD成膜装置 仕様
| 機種 | DASH-500 | DASH-800 | DASH-1000 |
|---|---|---|---|
|
真空槽(mm)
|
500W×500W×600H | φ800×650H | φ1000×900H |
|
有効エリア(mm)
|
φ200×200L | φ500×200L | φ600×500L |
|
基板ホルダー
|
自公転式（製品形状に応じて特注製作可能） | ||
|
搭載可能システム
|
DLCイオン源（イオン化蒸着源）、HCDガン、スパッタリング | ||
| アーク、EBガン、イオン注入源 | |||
|
到達圧力
|
6.7E-4Pa以下 | ||
|
排気速度
|
6.7E-3Pa以下まで30分以内 | ||
|
基板加熱機構
|
オプション（シースヒーター、ランプヒーター等） | ||
|
基板バイアス
|
MAX 3,000V 500mA | ||
|
装置制御
|
レシピ画面設定による完全自動運転 ※一部複合型は除く | ||
|
排気系
|
ターボ分子ポンプ ＋ ロータリーポンプ | ||
|
所要電力
|
3φ 200V 15ｋVA～ | 3φ 200V 25ｋVA～ | 3φ 200V 30ｋVA～ |
|
設置面積（Ｍ）
|
2.5W×3.0D×2.5H | 3.0W×4.0D×2.5H | 4.0W×4.0D×2.5H |
|
冷却水
|
3kgf／cm2 20L～40L／min | ||
|
圧縮空気
|
6kgf／cm2 以上 | ||
