DLCコーティング装置・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

弊社真空装置技術の基礎となった伝統のモデルで、独自に開発したホローカソード型イオンプレーティング方式によって、TiN、TiCN、CrN等のハードコーティングをドロップレットの少ない、平滑で密着性の高い成膜処理として可能にいたしました。

・ハース上下動及びロッドフィード方式による成膜エリアの拡大並びに均一性向上を実現

・両扉オープン及び治具下置設計による作業性向上

・ビーム収束コイルによる高エネルギー密度プラズマビームの発生

中空陰極内部より放電用作動ガスであるアルゴンガスを放出し、この不活性ガスであるアルゴンガスをイオン化し、放電を形成します。