DLCコーティング装置・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

仕　様 膜　　種 DLC（All Type） 各種ICFコーティング 装　　備 イオン源1基, 2元ターゲット DC･RF･パルス電源, HiPIMS電源 ガスライン6系統 製　　法 IVD, P-CVD, HiPIMS 基板テーブル φ100×1基 搭載寸法 φ100x100mm 有効範囲 φ100x100mm

【特　徴】
幅1,400×高さ1,700mmと体は小さいですが、ほぼすべてのコーティング加工が可能です。 多くの機構を装備しこの１台で複数の製法を操るマルチ仕様のため、コーティングの細かい生成条件指定がある大学等学術研究機関向けや開発試作コーティングで重宝されています。

仕　様 膜　　種 DLC（Type IV, VI） 各種ICFコーティング 装　　備 イオン源１基、スパッタ源１基 RF電源, ガスライン4系統 製　　法 IVD, P-CVD 基板テーブル φ200×1基 搭載寸法 φ200x200mm 有効範囲 φ200x150mm

【特　徴】
絶縁性ICFや導電性ICFなどの電気特性皮膜の生成を得意とし、またPLC（ポリマー・ライク・カーボン）などカスタマイズ仕様のコーティングも可能です。
100℃未満の低温製法にも対応し、耐熱温度の低いゴムや樹脂製品への施工も可能です。
ほぼすべてのICFコーティングシリーズとカスタマイズICFにも対応しているため、少ロットの試作コーティングに最適です。

仕　様 膜　　種 DLC（Type IV） 生体適合性ICF アルミニウム合金用ICF 装　　備 イオン源2基、スパッタ源１基 DC電源, ガスライン2系統 自公転式回転テーブル 製　　法 IVD 基板テーブル φ200×6基 搭載寸法 φ650x620mm 有効範囲 φ650x460mm

【特　徴】
小テーブル６基を具備した自公転式回転テーブルを搭載し、量産品でもバラツキのない品質を維持しています。
また、多種多様な汎用治具を持ち、様々な形状の製品へのコーティングが可能です。

仕　様 膜　　種 DLC（Type I, II, III, IV, VI） 導電性ICF 装　　備 イオン源2基、スパッタ源１基 DC・HiPIMS電源, ガスライン4系統 自公転式回転テーブル 製　　法 IVD, HiPIMS 基板テーブル φ170×7基, 垂直テーブルx5基 搭載寸法 φ725x450mm, 500x165mm 有効範囲 φ700x350mm, 480x120mm

【特　徴】
小テーブルを7基も装備し、イオン源だけでなくHiPIMS電源も具備しておりますので、水素フリーICFのコーティングが可能です。
また、開発試作コーティングの量産や、カスタマイズ仕様の量産にも対応しています。

仕　様 膜　　種 DLC（Type IV） 各種ICFコーティング 装　　備 イオン源4基、スパッタ源１基、 DC電源, ガスライン4系統 自公転式回転テーブル 製　　法 IVD 基板テーブル φ200×6基 搭載寸法 φ650x620mm 有効範囲 φ650x360mm

【特　徴】
DLCは１タイプのみ対応の機種ですが、6基の小テーブルと4基のイオン源、そして4系統のガスラインも装備し、各種ICFコーティングシリーズの量産に適した装置です。

仕　様 膜　　種 DLC（Type IV, IV） 環境調和型ICF 装　　備 イオン源15基、DC電源 ガスライン2系統 ドラム式回転軸1基 製　　法 IVD, P-CVD 基板テーブル 600×2,400mm※固定時 搭載寸法 φ600×3,500mm 有効範囲 φ500×3,500mm

【特　徴】
３ｍを超える大型長尺品に対しても、硬くて滑らかに成膜できるIVD（イオン化蒸着法）によるコーティングが可能です。＞＞＞もっと詳しく(PDF)

仕　様 膜　　種 TiN, TiCN 装　　備 HCDイオンガン1基、DC電源、 ガスライン3系統、 自転式回転テーブル 製　　法 HCD 基板テーブル φ130×8基 搭載寸法 φ130x300mm 有効範囲 　同上

【特　徴】
ドロップレットのない平滑性に優れた製法「HCD（ホローカソード）」で、精密金型や極細のピン形状品、鏡面加工品へのコーティングにも対応しています。
8基の自転テーブルと多種多様な汎用治具を具備し、様々な形状品の量産が可能です。

仕　様 膜　　種 TiN, TiCN, TiAlN, CrN, CrAlN, PAC（DLC [Type I]） 装　　備 ハニカム式ターゲット 自公転式回転テーブル 製　　法 AIP 基板テーブル φ200×8基 搭載寸法 φ800×1,200、φ700×650 有効範囲 φ700×1,100、φ600×600

【特　徴】
真空炉内空間を効率的広範囲に利用できるAIP方式の製法と自公転テーブル機構を持ち、大量生産に対応したPVD装置です。また、１ｍの長尺品の処理も可能です。
天然ダイヤに匹敵する高硬度のDLC（Type I）のコーティングができる事も特徴です。