DLCコーティング装置・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

コーティング装置 ICF成膜装置

真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。

ICF成膜装置

DLCを含む高機能性を持つカーボン膜による超鏡面性,導電性,耐熱性,撥水性,アルミニウム合金用,光学用,絶縁性,環境調和型を付与したコーティング装置。

ICF-1000 ICF-800 ICF-500

 

原理・構造

DLC薄膜の応用用途が拡大するのに伴い、単に硬質で摩擦係数が低い「ダイヤモンドライクカーボン」という呼称では、その機能を含め捉えきれなくなってきました。DLC薄膜の特性を物性により分類した用途別の活用が必要とされています。この分類を明確にするため、新たにDLCを大きな枠組みで促えなおす概念としてICF(Intrinsic Carbon Film : 真性カーボン膜)があります。


高機能の付加

ICFは、DLCを含む高機能性を持つカーボン膜の呼称です。弊社は、独自のDLCコーティングテクノロジーを発展させDLCに各種ドーピングや構造制御などを行うことで、様々な高機能性の付与に成功しました。

下図にICFの概念図を示します。弊社の技術データと成膜制御技術により最適なICFを設計し、各種応用用途に合わせたコーティングを行うことが可能になりました。

ICF成膜装置 仕様

機種 ICF-500 ICF-800 ICF-1000
真空槽(mm)
500W×500W×600H φ800×650H φ1000×900H
有効エリア(mm)
φ200×200L φ500×200L φ600×500L
基板ホルダー
自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)
搭載放電システム
DLCイオン源(イオン化蒸着源)
到達圧力
6.7E-4Pa以下
排気速度
6.7E-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)
基板バイアス
MAX 3,000V 500mA
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転
排気系
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
所要電力
3φ 200V 10kVA 3φ 200V 20kVA 3φ 200V 30kVA
設置面積(M)
2.5W×3.0D×2.5H 3.0W×4.0D×2.5H 4.0W×4.0D×2.5H
冷却水
3kgf/cm2 20~40L/min
圧縮空気
6kgf/cm2 以上

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