DLCコーティング・表面処理・薄膜分析のナノテック株式会社

コーティング装置 マルチPVD成膜装置

真空とプラズマを利用し、様々な材料に薄膜や改質層を成形し、付加価値を高める装置を製造。ユーザーのニーズに合う多種、 多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います。

マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン(DLC)膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜/合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。

マルチPVD成膜装置 仕様

機種 DASH-500 DASH-800 DASH-1000
真空槽(mm)
500W×500W×600H φ800×650H φ1000×900H
有効エリア(mm)
φ200×200L φ500×200L φ600×500L
基板ホルダー
自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)
搭載可能システム
DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング
アーク、EBガン、イオン注入源
到達圧力
6.7×10-4Pa以下
排気速度
6.7×10-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)
基板バイアス
MAX 3,000V 500mA
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転 ※一部複合型は除く
排気系
ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ
所要電力
3φ 200V 15kVA~ 3φ 200V 25kVA~ 3φ 200V 30kVA~
設置面積(M)
2.5W×3.0D×2.5H 3.0W×4.0D×2.5H 4.0W×4.0D×2.5H
冷却水
3kgf/cm2 20L~40L/min
圧縮空気
6kgf/cm2 以上

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